Установка ионного травления IONBEAM AL2000/2200
IONBEAMAL-2000/2200 обрабатывает практически все твердые материалы, включая образцы, состоящие из нескольких элементов. Подготовив образцы с помощью AL-2000/2200, вы получите более четкие снимки в СЭМ вне зависимости от твердости, размера, состава материалов и их типов, будь то полимерные материалы, минералы, полупроводники или керамика.
Тип: настольный
Вакуум: 5*10-3Па
Источник питания высокого напряжения: 0~6000 В (низкоэнергетическое травление); 0~10000В (высокоэнергетическое травление)
Плотность тока ионного пучка: не более 10 мА/см 2
Размер пятна ионного луча: 300 мкм ~ 500 мкм и 1,5 мм ~ 2,5 мм
Размер образца: 0 ~ Ø25 мм
Угол травления и полировки образца: 0°~90° (стандартный угол полировки 0°, другие углы устанавливаются механически)
Угол вращения предметного столика: 360°
Скорость вращения предметного столика: 6–10 об/мин.
Регулятор расхода аргона: 0~10 мл/мин (регулируемый)
Время вакуумирования для смены образца: 2,5 минуты, время смены образца может быть сокращено до 30–60 с после установки устройства быстрой смены
Функция самозащиты: есть
Охлаждение жидким азотом: есть
Влажность: <80%
Напряжение питания: 220 В (±10%), одна фаза, 50 Гц (±1)
Общая мощность: менее 1 кВт
- Ионы травления и полировки: ионы аргона, ионы ксенона опционально
- Количество ионов аргона: 2 диагональных источника ионов (стандартно), с возможностью расширения до 4 источников ионов;
- Плотность тока ионного пучка: не более 10 мА/см 2;
- Размер пятна ионного луча: 300 мкм ~ 500 мкм и 1,5 мм ~ 2,5 мм;
- Скорость полировки: максимум 500 мкм/час для кремния (шлифовка секций или травление с фиксированной точкой);
- Максимум 100 мкм/ч для кремния (плоскостное травление и полировка);
- Максимум 10 мкм/ч для кремния (полировка плоскостным травлением).
c политикой конфиденциальности
